国立大学法人信州大学 教育・学生支援機構・工学部 / 特任教授 中村 正行 氏にご講演をいただきます。

株式会社AndTech(本社:神奈川県川崎市、代表取締役社長:陶山 正夫、以下 AndTech)は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる光学薄膜 光学多層膜での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「光学薄膜 光学多層膜」講座を開講いたします。
反射防止コート、高反射ミラー、斜入射フィルター、エッジフィルター、赤外線反射フィルムなどの多層膜の膜構造を最適化するデモンストレーションを実施!
本講座は、2026年05月28日開講を予定いたします。
詳細:https://andtech.co.jp/seminars/1f0f81ca-02df-61ca-ad4d-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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テーマ:光学多層膜の分光特性解析と最適設計の理論
開催日時:2026年05月28日(木) 13:00-17:00
参 加 費:45,100円(税込) ※ 電子にて資料配布予定
U R L :https://andtech.co.jp/seminars/1f0f81ca-02df-61ca-ad4d-064fb9a95405
WEB配信形式:Zoom(お申し込み後、URLを送付)
セミナー講習会内容構成
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ープログラム・講師ー
国立大学法人信州大学 教育・学生支援機構・工学部 / 特任教授 中村 正行 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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・光学薄膜解析の基礎理論
・最適化の基礎理論
・光学多層膜設計における主要な設計パラメーターは何か
・最適設計における留意事項
本セミナーの受講形式
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WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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株式会社AndTech 技術講習会一覧
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一流の講師のWEB講座セミナーを毎月多数開催しております。
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株式会社AndTech 書籍一覧
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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
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本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス:pr●andtech.co.jp(●を@に変更しご連絡ください)
下記プログラム全項目(詳細が気になる方は是非ご覧ください)
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【講演主旨】
光学多層膜の光学特性を解析するための基礎理論について解説します。光学多層膜の設計における主要な設計パラメータを詳しく解説します。次に、多層膜の設計を行うための最適設計手法の理論を解説します。光学薄膜解析の基礎理論から最適設計まで、一連の基礎理論の理解を目指し、学習用のExcel VBAプログラムを用いた光学多層膜の特性解析と、最適化の流れと留意点について説明します。反射防止コート、高反射ミラー、斜入射フィルター、エッジフィルター、赤外線反射フィルムなどの多層膜の膜構造を最適化するデモンストレーションを行います。
【プログラム】
1.光学の基礎理論
1-1 光の表示式
1-2 反射率と透過率
2.光学薄膜解析の基礎理論
2-1 光波の干渉
2-2 多光波の干渉
2-3 光学多層膜における反射光・透過光
3.光学薄膜の最適設計
3-1 設計問題と最適化の基礎理論
3-2 最適化計算の留意点
4.各種薄膜の機能と最適設計のデモンストレーション
4-1 反射防止膜,高反射膜
4-2 IRカットフィルター,UVカットフィルター
4-3 遮熱フィルター(熱線反射膜),太陽光スペクトル制御超多層フィルムなど
【質疑応答】
【キーワード】
光学薄膜解析,光学薄膜設計,最適設計,反射防止膜,反射防止フィルム,光学フィルター,超多層フィルム
【講演のポイント】
光学薄膜解析の基礎理論と最適化の基礎理論の詳細を示し,光学多層膜設計における主要な設計パラメーターは何かを理論式に基づき解説します.最適設計における留意事項を具体的な設計例に基づき説明し,最適化の進め方を示します.
* 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
* 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上