ニューフレアテクノロジー（NFT）は、2026年9月21日から24日までスイス インターラーケンで開催された「MNE2026」(The 52nd International Conference on Micro and Nano Engineering)に参加しました。
本会議は、iMNEs（International Micro and Nano Engineering Society）が毎年開催する、微細加工技術およびその関連デバイスや応用技術を扱う国際会議です。
半導体分野に限らず微細加工技術、ナノ構造、各種関連デバイスも幅広く対象としており、ナノ加工、MEMS、微細構造形成に関する研究成果も発表されます。
NFTは、今回、曲線パターンマスクに対する寸法測定用走査電子顕微鏡測定の影響について、1件のポスター発表を行いました。
＜MNE2026でのNFTのポスター発表＞
Poster S10A-T1-P-4
“CD-SEM measurement impact on curvilinear mask patterns: Resist shrinkage behaviour and its spatial dependence”
Author(s): Hikari Ogawa, Hideki Matsui, Yoshinori Kojima (NuFlare Technology, Inc.)
Presenter: Hikari Ogawa
関連リンク
https://mne2026.imnes.org/
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